ブイ・テクノロジー

６【研究開発活動】 当社グループ（当社及び連結子会社）は半導体にかかわる検査・修正・製造、及び関連する部材・プロセス技術の基幹要素技術及び次世代技術開発の研究開発活動を進めており、電子回路設計、光学設計、制御システム設計、真空技術開発、材料開発、プロセス技術開発をベースに、業界をリードする技術を目指しております。 当社グループの研究開発は主に当社にて実施しており、技術部門とも綿密に連携しながら研究開発効率の向上に努めております。また、新規テーマ探索等のために大学研究機関との積極的な交流も継続して進めております。 当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能・信頼性向上、コスト低減のための要素技術開発を目的に2,197百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。 半導体向け小型フォトマスク製造に関連する主な開発要素技術としては、高精度光学式パターン検査技術、超高精度座標計測技術、マスクレス露光技術、フェムト秒レーザ発振技術や電子ビーム計測技術の開発などを行っております。

６【研究開発活動】 当社グループ（当社及び連結子会社）はＦＰＤ、半導体にかかわる検査・修正・製造、及び関連する部材・プロセス技術の基幹要素技術及び次世代技術開発の研究開発活動を進めており、電子回路設計、光学設計、制御システム設計、真空技術開発、材料開発、プロセス技術開発をベースに、業界をリードする技術を目指しております。 当社グループの研究開発は主に当社にて実施しており、技術部門とも綿密に連携しながら研究開発効率の向上に努めております。また、新規テーマ探索等のために大学研究機関との積極的な交流も継続して進めております。 当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能・信頼性向上、コスト低減のための要素技術開発を目的に2,415百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。 ＦＰＤパネル製造に関連する主な開発要素技術としては、ＦＰＤ向け大型フォトマスクの修正用イオンビーム技術やパターンニング用直描技術、液晶/有機ＥＬパネルの修正用レーザ発振技術や製造用蒸着技術、半導体向け小型フォトマスクの高精度パターン検査技術や超高精度位置計測技術の開発等を行っております。

６【研究開発活動】 当社グループ（当社及び連結子会社）はＦＰＤ・半導体・ＰＣＢにかかわる検査・修正・製造及び関連する部材・プロセス技術の基幹要素技術及び次世代技術開発の研究開発活動を進めており、電子回路設計、光学設計、制御システム設計、真空技術開発、材料開発、プロセス技術開発をベースに、業界をリードする技術を目指しております。 当社グループの研究開発は主に当社にて実施しており、技術も綿密に連携しながら研究開発効率の向上に努めております。また、新規テーマ探索等のために大学研究機関との積極的な交流も継続して進めております。 当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能・信頼性向上、コスト低減のための要素技術開発を目的に2,289百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。 ＦＰＤパネル製造に関連する技術としては、ＦＰＤ向け大型フォトマスク及び液晶/有機ＥＬパネルの検査・修正・製造にかかわる要素及び技術開発、半導体・ＰＣＢ製造に関連する技術としては、検査・計測・修正・露光にかかわる要素技術開発を行っております。

５【研究開発活動】 当社グループ（当社及び連結子会社）は半導体、ＦＰＤにかかわる検査・修正・製造及び関連する部材・プロセス技術の基幹要素技術及び次世代技術開発の研究開発活動を進めており、電子回路設計、光学設計、制御システム設計、真空技術開発、材料開発、プロセス技術開発をベースに、業界をリードする技術を目指しております。 当社グループの研究開発は主に当社にて実施しており、技術・製造部門とも綿密に連携しながら研究開発効率の向上に努めております。また、新規テーマ探索等のために大学研究機関との積極的な交流も継続して進めております。 当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能・信頼性向上、コスト低減のための要素技術開発を目的に2,243百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。 ＦＰＤパネル製造に関連する技術としては、ＦＰＤ向け大型フォトマスク及び液晶/有機ELパネルの検査・修正・露光にかかわる要素及び技術開発、有機ＥＬパネル向け蒸着とそのプロセス技術開発、レーザアニール技術開発、半導体製造に関連する技術としては、半導体向けフォトマスク検査・計測技術、次世代技術開発としてはμLEDディスプレイ技術開発、人工知能（ＡＩ）による自動制御技術開発等を行っております。

５【研究開発活動】 当社グループ（当社及び連結子会社）は半導体、ＦＰＤにかかわる検査・修正・製造、及び関連する部材・プロセス技術の基幹要素技術及び次世代技術開発の研究開発活動を進めており、電子回路設計、光学設計、制御システム設計、真空技術開発、材料開発、プロセス技術開発をベースに、業界をリードする技術を目指しております。 当社グループの研究開発は当社にて実施されており、技術部門とも綿密に連携しながら研究開発効率の向上に努めております。また、新規テーマ探索等のために大学研究機関との積極的な交流も継続して進めております。 当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能向上のための要素技術開発を目的に2,253百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。 ＦＰＤパネル製造技術としては、ＦＰＤパネル検査・修正・露光、フォトマスク検査・修正及びその描画にかかわる要素及び技術開発、有機ＥＬパネル向け蒸着装置とそのプロセス技術開発、レーザアニール装置開発、半導体向けや次世代技術開発としてはμLEDディスプレイ技術開発、人工知能（ＡＩ）による自動制御技術開発等を行っております。

５【研究開発活動】 当社グループ（当社及び連結子会社）は半導体、ＦＰＤにかかわる検査・修正・製造、および関連する部材・プロセス技術の基幹要素技術および次世代技術開発の研究開発活動を進めており、電子回路設計、光学設計、制御システム設計、材料開発、プロセス技術開発をベースに、業界をリードする技術を目指しております。 当社グループの研究開発は当社にて実施されており、技術部門とも綿密に連携しながら研究開発効率の向上に努めております。また、新規テーマ探索等のために大学研究機関との積極的な交流も継続して進めております。 当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能向上のための要素技術開発を目的に2,342百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。 ＦＰＤパネル製造技術としては、ＦＰＤパネル検査・修正・露光、フォトマスク検査・修正およびその描画にかかわる要素技術開発、有機ＥＬパネル向け蒸着用マスク・蒸着装置とそのプロセス技術開発、レーザアニールにかかわる要素およびプロセス技術開発、半導体向けや次世代技術開発としてはμＬＥＤディスプレイ技術開発、人工知能（ＡＩ）による制御技術開発等を行っております。

５【研究開発活動】当社グループ（当社及び連結子会社）はＦＰＤパネル製造にかかわる検査・修正、パターン形成、各種プロセス技術に係る基幹要素技術及び次世代基礎技術開発の研究開発活動を進めており、電子回路設計、光学設計、材料設計、制御システム設計技術、プロセス技術開発をベースに、業界をリードする技術を目指しております。当社グループの研究開発は当社にて実施されており、技術部門とも綿密に連携しながら研究開発効率の向上に努めております。また、新規テーマ探索等のために大学研究機関との積極的な交流も継続して進めております。当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能向上のための要素技術開発を目的に14億2千8百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。ＦＰＤパネル製造技術に関しましては、高精度・高精細露光とそのプロセス技術、有機ＥＬパネル向け蒸着用マスク・蒸着装置とそのプロセス技術、レーザアニールとマイクロレンズ技術、マスク検査及び描画にかかわる要素技術開発、基礎開発としてはμLEDディスプレイ、次世代ストレージ技術等を行っております。また、このレーザアニール技術に関しては科学技術振興機構殿（ＪＳＴ）の産学共同実用化開発事業を山形大学及び東北大学への再委託を含めて実施いたしました。

６【研究開発活動】 当社グループ（当社及び連結子会社）はＦＰＤパネル製造にかかわる検査・修正、パターン形成に係る基幹要素技術の研究開発活動を進めており、電子回路設計、光学設計、材料設計、制御システム設計技術、プロセス技術開発をベースに、業界をリードできる技術の早期事業展開を目指しております。 当社グループの研究開発は当社にて実施されており、技術部門とも綿密に連携しながら研究開発効率の向上に努めております。また、新規テーマ探索等のために大学研究機関との積極的な交流も継続して進めております。 当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能向上のための要素技術開発を目的に12億6千7百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。 ＦＰＤパネル製造技術に関しましては、高精細露光、有機ＥＬパネル向け蒸着用マスク製造、レーザアニールおよびマスク検査にかかわる要素技術開発を行っております。本要素技術にかかわる当連結会計年度で実施した項目としては、高精細パネルの露光を行うためのマイクロレンズの開発、有機ＥＬパネル向けの高精細蒸着用マスクの開発、ＴＦＴパネル内のアモルファスシリコン膜を再結晶化するレーザアニール向け光学系と位置制御技術の開発、マスク検査ロジックの開発および、それらにかかわるプロセス開発等が挙げられます。 また、このレーザアニール技術に関しては科学技術振興機構殿（ＪＳＴ）の産学共同実用化開発事業を山形大学および東北大学と連携しながら進めております。

６【研究開発活動】 当社グループ（当社及び連結子会社）はＦＰＤパネル製造にかかわる検査・修正、パターン形成に係る基幹要素技術の研究開発活動を進めており、電子回路設計、光学設計、材料設計、制御システム設計技術、プロセス技術開発をベースに、業界をリードできる技術の早期事業展開を目指しております。 当社グループの研究開発は当社にて実施されており、技術部門とも綿密に連携しながら研究開発効率の向上に努めております。また、新規テーマ探索等のために大学研究機関との積極的な交流も継続して進めております。 当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能向上のための要素技術開発を目的に7億6千3百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。 ＦＰＤパネル製造における修正技術に関しましては、高精細パネルの配線修正要素技術開発を行っております。本要素技術にかかわる当連結会計年度で実施した項目としては、配線修正材料、配線修正プロセスの開発及びレーザ発振器の開発を行いました。 ＦＰＤパネル製造におけるパネル製造技術に関しましては、高精細露光、有機ＥＬパネル向け蒸着用マスク製造、レーザアニール及びマスク検査にかかわる要素技術開発を行っております。本要素技術にかかわる当連結会計年度で実施した項目としては、高精細パネルの露光を行うためのマイクロレンズの開発、有機ＥＬパネル向けの高精細蒸着用マスクの開発、ＴＦＴパネル内のアモルファスシリコン膜を再結晶化するレーザアニール向け光学系開発及び、それらにかかわるプロセス開発等が挙げられます。 また、このレーザアニール技術に関しては科学技術振興機構殿（ＪＳＴ）の産学共同実用化開発事業を山形大学及び東北大学と連携しながら進めております。