ジオマテック

６【研究開発活動】(1) 研究開発活動の体制 当社の研究開発活動は、事業領域の拡大および事業モデルの変革を目的に、新たな技術の創出を目指して、「製造技術部」と「事業開発部」の二部門で構成されております。 製造技術部は、既存製品に新たな価値を付加するため、従来技術をさらに発展させる技術開発に取り組んでいます。一方、事業開発部は、中長期的な視点から差別化につながる新たな事業開発テーマの探索および実行を担っております。 開発テーマの重要性に応じて、上記二部門に加え、営業部門、製造部門などの関係部門を含めたプロジェクトチームを編成し、効率的かつ組織的に新たな技術、製品、事業の開発に取り組んでいます。 また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクトや共同研究も、「製造技術部」と「事業開発部」の二部門を中心として積極的に推進しております。(2) 研究開発活動の方針 当社は、「地球・人類・技術の融合により、明るく豊かな未来を創造する」という企業理念のもと、価値ある薄膜技術と生産技術を提供することにより、ものづくりとテクノロジーの発展に貢献することを使命としております。 この使命の実現に向けて、開発部門では、「薄膜技術」の幅広い分野への応用、要素技術の開発、新製品の提供を通じて、ディスプレイ、モビリティ、半導体・電子部品といった各事業領域におけるコア技術の創出に注力してまいりました。 今後は、こうした技術基盤に加え、顧客の利便性向上を図るため、周辺加工技術、設計技術、評価技術など、当社の強みである生産技術力を活かし、価値提供の多角化にも積極的に取り組んでまいります。(3）研究開発活動における当事業年度の主要課題 当社は、成膜加工関連事業の単一セグメントであるため、品目別に記載しております。（ディスプレイ）①低反射メタルメッシュ電極の材料開発及び加工技術開発（モビリティ）①低反射フィルム（g.moth®）の生産技術確立②低反射フィルム（g.moth®）の応用製品開発③面発熱ヒーターの応用製品の開発④特定波長帯での広角高反射ミラーの開発（半導体・電子部品）①ファンアウト・パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発②金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発③弾性波デバイス用音響多層膜の開発④MEMSデバイス用圧電薄膜の開発⑤パワーデバイス用GaNテンプレートウエハーの開発⑥貫通ビアへの成膜技術の開発（その他）①プラズマプロセス技術の開発②高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発③高滑落性機能材料の開発④無反射黒色シートの開発 なお、当事業年度の研究開発費の総額は318百万円であります。

６【研究開発活動】(1) 研究開発活動の体制 当社の研究開発活動は、事業領域の拡大及び事業モデルの変革のための新規技術を創生すべく、製造技術部と研究開発部の２部門より構成されております。製造技術部が既存製品に新たな価値を付与するために、従来技術をさらに発展させる技術開発に取り組み、研究開発部が中長期的に差別化できる新たな技術開発テーマの探索と実施を担当しております。開発テーマの重要性に応じて上記２部門の他、施設部、営業部等を含めたプロジェクトチームを編成し、効率的に新たな技術や製品開発に取り組んでおります。 また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクト、共同研究も研究開発部門が中心となり推進しております。(2) 研究開発活動の方針 当社は、地球、人類、技術の融合により明るく豊かな未来を創造するという企業理念のもと、価値ある薄膜と加工技術を提供することでものづくりとテクノロジーの発展に貢献することを使命としております。そのために、研究開発部門は幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、要素技術開発並びに新製品の提供等を行ってまいりましたが、今後は、ディスプレイ、モビリティ及び半導体・電子部品の各事業領域での成長を支えるコア技術の創出に注力すると同時に、製造技術も真空成膜をベースとしつつ応用や製法の多角化にも取り組んでいく方針であります。(3）研究開発活動における当事業年度の主要課題 当社は、成膜加工関連事業の単一セグメントであるため、品目別に記載しております。（ディスプレイ）①低反射メタルメッシュ電極の材料開発及び加工技術開発（モビリティ）①低反射フィルム（g.moth®）の生産技術確立②低反射フィルム（g.moth®）の応用製品開発③面発熱ヒーターの応用製品の開発④特定波長帯での広角高反射ミラーの開発（半導体・電子部品）①ファンアウト・パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発②金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発③紫外光透過透明導電膜の開発④放熱シートの開発⑤弾性波デバイス用音響多層膜の開発⑥MEMSデバイス用圧電薄膜の開発⑦パワーデバイス用GaNテンプレートウエハーの開発（その他）①プラズマプロセス技術の開発②高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発③高滑落性機能材料の開発④脱着構造体の開発⑤異形材料へのパターニング加工技術の開発⑥赤外光透過透明導電膜の開発 なお、当事業年度の研究開発費の総額は286百万円であります。

６【研究開発活動】(1) 研究開発活動の体制 当社の研究開発活動は、事業領域の拡大及び事業モデルの変革のための新規技術を創生すべく、製造技術部と研究開発部の２部門より構成されております。製造技術部が既存製品に新たな価値を付与するために、従来技術をさらに発展させる技術開発に取り組み、研究開発部が中長期的に差別化できる新たな技術開発テーマの探索と実施を担当しております。開発テーマの重要性に応じて上記２部門の他、施設部、営業部等を含めたプロジェクトチームを編成し、効率的に新たな技術や製品開発に取り組んでおります。 また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクト、共同研究も研究開発部門が中心となり推進しております。(2) 研究開発活動の方針 当社は、地球、人類、技術の融合により明るく豊かな未来を創造するという企業理念のもと、価値ある薄膜と加工技術を提供することでものづくりとテクノロジーの発展に貢献することを使命としております。そのために、研究開発部門は幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、要素技術開発並びに新製品の提供等を行ってまいりましたが、今後は、ディスプレイ、モビリティ及び半導体・電子部品の各事業領域での成長を支えるコア技術の創出に注力すると同時に、製造技術も真空成膜をベースとしつつ応用や製法の多角化にも取り組んでいく方針であります。(3）研究開発活動における当事業年度の主要課題 当社は、成膜加工関連事業の単一セグメントであるため、品目別に記載しております。（ディスプレイ）①低反射メタルメッシュ電極の材料開発及び加工技術開発②フレキシブルディスプレイ用、極薄フィルム基板の仮固定及び剥離技術の確立（モビリティ）①低反射フィルム（g.moth®）の生産技術確立②低反射フィルム（g.moth®）の応用製品開発③異形材料への面発熱ヒーター加工技術の開発④面発熱ヒーターの応用製品の開発⑤特定波長帯での広角高反射ミラーの開発（半導体・電子部品）①ファンアウト・パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発②金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発③薄膜温度センサーおよび流量センサーの開発④紫外光透過透明導電膜の開発⑤放熱シートの開発⑥弾性波デバイス用音響多層膜の開発（その他）①プラズマプロセス技術の開発②高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発③高滑落性機能材料の開発④脱着構造体の開発⑤異形材料へのパターニング加工技術の開発⑥赤外光透過透明導電膜の開発 なお、当事業年度の研究開発費の総額は303百万円であります。

５【研究開発活動】(1) 研究開発活動の体制 当社の研究開発活動は、事業領域の拡大及び事業モデルの変革のための新規技術を創生すべく、製造技術部と研究開発部の２部門より構成されております。製造技術部が既存製品に新たな価値を付与するために、従来技術をさらに発展させる技術開発に取り組み、研究開発部が中長期的に差別化できる新たな技術開発テーマの探索と実施を担当しております。開発テーマの重要性に応じて上記２部門の他、施設部、営業部等を含めたプロジェクトチームを編成し、効率的に新たな技術や製品開発に取り組んでおります。 また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクト、共同研究も研究開発部門が中心となり推進しております。(2) 研究開発活動の方針 当社は、地球、人類、技術の融合により明るく豊かな未来を創造するという企業理念のもと、価値ある薄膜と加工技術を提供することでものづくりとテクノロジーの発展に貢献することを使命としております。そのために、研究開発部門は幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、要素技術開発並びに新製品の提供等を行ってまいりましたが、今後は、ディスプレイ・モビリティ・半導体及び電子部品の各事業領域での成長を支えるコア技術の創出に注力すると同時に、製造技術も真空成膜をベースとしつつ応用や製法の多角化にも取り組んでいく方針であります。(3）研究開発活動における当連結会計年度の主要課題 当社グループは、成膜加工関連事業の単一セグメントであるため、品目別に記載しております。（ディスプレイ）①低反射メタルメッシュ電極の材料開発及び加工技術開発②フレキシブルディスプレイ用、極薄フィルム基板の仮固定及び剥離技術の確立（モビリティー）①曲面基板への成膜加工技術の開発②低反射フィルム（g.moth®）の生産技術確立③低反射フィルム（g.moth®）の応用製品開発④異形材料への面発熱ヒーター加工技術の開発⑤面発熱ヒーターの応用製品の開発（半導体/電子部品）①ファンアウト・パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発②セミアディティブプロセスによる微細回路形成技術の開発③５Ｇ向け配線材料の開発④金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発⑤薄膜温度センサーおよび流量センサーの開発⑥紫外光透過透明導電膜の開発（その他）①高出力レーザー向けレンズの開発②プラズマプロセス技術の開発③高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発④高滑落性機能材料の開発⑤異形材料へのパターニング加工技術の開発⑥赤外光透過透明導電膜の開発 なお、当連結会計年度の研究開発費の総額は294百万円であります。

５【研究開発活動】(1) 研究開発活動の体制 当社の研究開発活動は、事業領域の拡大及び事業モデルの変革のための新規技術を創生すべく、製造技術部と研究開発部の２部門より構成されております。製造技術部が既存製品に新たな価値を付与するために、従来技術をさらに発展させる技術開発に取り組み、研究開発部が中長期的に差別化できる新たな技術開発テーマの探索と実施を担当しております。開発テーマの重要性に応じて上記２部門の他、施設部、営業部、マーケティング部等を含めたプロジェクトチームを編成し、効率的に新たな技術や製品開発に取り組んでおります。 また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクト、共同研究も研究開発部門が中心となり推進しております。(2) 研究開発活動の方針 当社は、地球、人類、技術の融合により明るく豊かな未来を創造するという企業理念のもと、価値ある薄膜と加工技術を提供することでものづくりとテクノロジーの発展に貢献することを使命としております。そのために、研究開発部門は幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、要素技術開発並びに新製品の提供等を行ってまいりましたが、今後は、ディスプレイ・モビリティ・半導体及び電子部品の各事業領域での成長を支えるコア技術の創出に注力すると同時に、製造技術も真空成膜をベースとしつつ応用や製法の多角化にも取り組んでいく方針であります。(3）研究開発活動における当連結会計年度の主要課題 当社グループは、真空成膜関連製品等の製造、販売を行う単一セグメントであるため、品目別に記載しております。（ＦＰＤ用基板）①曲面基板への成膜加工技術の開発②低反射メタルメッシュ電極の材料開発及び加工技術開発③フレキシブルディスプレイ用、極薄フィルム基板の仮固定及び剥離技術の確立（その他）①車載ディスプレイ向け反射防止膜の量産化技術確立②低反射フィルム（g.moth®）の生産技術確立③低反射フィルム（g.moth®）の応用製品開発④高出力レーザー向けレンズの開発⑤ファンアウト・パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発⑥セミアディティブプロセスによる微細回路形成技術の開発⑦プラズマプロセス技術の開発⑧高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発⑨高滑落性機能材料の開発⑩５Ｇ向け配線材料の開発⑪異形材料への面発熱ヒーター加工技術の開発⑫面発熱ヒーターの応用製品の開発⑬異形材料へのパターニング加工技術の開発⑭金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発⑮薄膜温度センサーおよび流量センサーの開発 なお、当連結会計年度の研究開発費の総額は274百万円であります。

５【研究開発活動】(1) 研究開発活動の体制 当社の研究開発活動は、事業領域の拡大及び事業モデルの変革のための新規技術を創生すべく、67期に新設した製造技術部と研究開発部の２部門より構成されております。製造技術部が既存製品に新たな価値を付与するために、従来技術をさらに発展させる技術開発に取り組み、研究開発部が中長期的に差別化できる新たな技術開発テーマの探索と実施を担当しております。開発テーマの重要性に応じて上記２部門の他、施設部、営業部、マーケティング部等を含めたプロジェクトチームを編成し、効率的に新たな技術や製品開発に取り組んでおります。 また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクト、共同研究も研究開発部門が中心となり推進しております。(2) 研究開発活動の方針 当社は、地球、人類、技術の融合により明るく豊かな未来を創造するという企業理念のもと、価値ある薄膜と加工技術を提供することでものづくりとテクノロジーの発展に貢献することを使命としております。そのために、研究開発部門は幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、要素技術開発並びに新製品の提供等を行ってまいりましたが、今後は、エレクトロニクス・モビリティ・インダストリーの各事業領域での成長を支えるコア技術の創出に注力すると同時に、製造技術も真空成膜をベースとしつつ応用や製法の多角化にも取り組んでいく方針であります。(3）研究開発活動における当連結会計年度の主要課題 当社グループは、真空成膜関連製品等の製造、販売を行う単一セグメントであるため、品目別に記載しております。（ＦＰＤ用基板）①曲面基板への成膜加工技術の開発②低反射メタルメッシュ電極の材料開発及び加工技術開発③フレキシブルディスプレイ用、極薄フィルム基板の仮固定及び剥離技術の確立（その他）①車載ディスプレイ向け反射防止膜の量産化技術確立②低反射フィルム（g.moth®）の生産技術確立③低反射フィルム（g.moth®）の応用製品開発④高出力レーザー向けレンズの開発⑤ファンアウト・パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発⑥セミアディティブプロセスによる微細回路形成技術の開発⑦高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発⑧高滑落性機能材料の開発⑨異形材料への面発熱ヒーター加工技術の開発⑩面発熱ヒーターの応用製品の開発⑪異形材料へのパターニング加工技術の開発⑫各種薄膜センサーの開発 なお、当連結会計年度の研究開発費の総額は381百万円であります。

５【研究開発活動】(1) 研究開発活動の体制 当社の研究開発活動は、新製品及び要素技術の開発及び既存製品の改良・改善を技術部が中心となって活動し、また、製造設備の開発を技術部、施設部の２部門が密接に連携を取りながら担当しております。開発テーマの重要性に応じて上記２部門の他、営業部、マーケティング部を含めプロジェクトチームを編成し、効率的に新たな技術や製品開発に取り組んでおります。 また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクト、共同研究も技術部が中心となり推進しております。(2) 研究開発活動の方針 当社は、「真空成膜技術」をコア技術とした事業による、企業価値の追求、社会への貢献を使命としております。そのために、研究開発部門はＦＰＤ、光学機器用部品関連を中心に、車載、エネルギーや薄膜デバイス関連の幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、真空成膜の前後工程を含めた要素技術開発並びに新製品の提供等を継続し続けることを基本方針としております。(3）研究開発活動における当連結会計年度の主要課題 当社グループは、真空成膜関連製品等の製造、販売を行う単一セグメントであるため、品目別に記載しております。（ＦＰＤ用基板）①静電容量タッチパネル（インセル方式）向け高抵抗導電膜の量産技術確立②パターニング・リフトオフ加工の高精細化技術の開発③メタルメッシュを適用した静電容量タッチパネル（アウトセル型）量産化技術確立④ポリイミド上に形成する電子デバイス用固定膜（ＬＬＯ膜）技術の確立（その他）①車載向け反射防止膜の量産化技術確立②車載向け低反射透明導電膜の技術開発③車載向け電磁波防止機能付きカバーパネル技術開発④円筒内部を含めた異形品への成膜加工技術の開発⑤低反射フィルム（ｇ．ｍｏｔｈ）の生産技術確立⑥異形材料のパターニング加工技術の開発⑦赤外透過型面発熱ヒーターの開発⑧高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発とその応用製品の開発⑨高滑落性機能膜の開発とその応用製品の開発⑩各種センサーデバイスの開発⑪バイオ・メディカル機器向け製品開発⑫静電容量型タッチスイッチの開発⑬ヒーターの成膜及び周辺加工技術開発とその応用製品の開発⑭ファンアウトレベルパッケージ用の微細回路形成材料（ＨＲＤＰ）の量産技術開発⑮高出力レーザー向けレンズの開発 なお、当連結会計年度の研究開発費の総額は364百万円であります。

５【研究開発活動】(1) 研究開発活動の体制 当社の研究開発活動は、新製品及び要素技術の開発を行う第二技術部と既存製品の改良・改善、製造設備の開発を行う第一技術部、施設部の３部門が密接に連携を取りながら担当しております。開発テーマの重要性に応じて上記３部門の他、営業部を含めプロジェクトチームを編成し、効率的に新たな技術や製品開発に取り組んでおります。 また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクト、共同研究も第二技術部を中心に推進しております。(2) 研究開発活動の方針 当社は、「真空成膜技術」をコア技術とした事業による、企業価値の追求、社会への貢献を使命としております。そのために、研究開発部門はＦＰＤ、光学機器用部品関連を中心に、車載、エネルギーや薄膜デバイス関連の幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、要素技術開発並びに新製品の提供等を継続し続けることを基本方針としております。(3）研究開発活動における当連結会計年度の主要課題 当社グループは、真空成膜関連製品等の製造、販売を行う単一セグメントであるため、品目別に記載しております。（ＦＰＤ用基板）①静電容量タッチパネル（インセル方式）向け高抵抗導電膜の量産技術確立②パターニング・リフトオフ加工技術の開発③メタルメッシュを適用した静電容量タッチパネル（アウトセル型）量産化技術確立④フィルムタッチパネル向け透明電極加工技術確立（その他）①車載向け反射防止膜の量産化技術確立②車載向け低反射透明導電膜の技術開発③車載向けハーフミラー付きガラス製品の技術開発④円筒内部を含めた異形品への成膜加工技術の開発⑤極薄フイルムへの成膜加工技術の開発⑥異形材料のパターニング加工技術の開発⑦赤外用光学薄膜の開発⑧超撥水膜・親水膜の開発とその応用製品の開発⑨高品位加飾膜の開発とその応用製品の開発⑩各種センサーデバイスの開発⑪バイオ・メディカル機器向け製品開発⑫静電容量型タッチスイッチの開発⑬ヒーターの成膜及び周辺加工技術開発とその応用製品の開発⑭フィルムへのインサート成型・ＴＯＭ成型対応膜の開発⑮ファンアウトレベルパッケージ用の微細回路形成材料（ＨＲＤＰ）の開発 なお、当連結会計年度の研究開発費の総額は３億79百万円であります。

６【研究開発活動】(1) 研究開発活動の体制 当社の研究開発活動は、新製品及び要素技術の開発を行う第二技術部と既存製品の改良・改善、製造設備の開発を行う第一技術部、施設部の３部門が密接に連携を取りながら担当しております。開発テーマの重要性に応じて上記３部門の他、営業部を含めプロジェクトチームを編成し、効率的に新たな技術や製品開発に取り組んでおります。 また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクト、共同研究も第二技術部を中心に推進しております。(2) 研究開発活動の方針 当社は、「真空成膜技術」をコア技術とした事業による、企業価値の追求、社会への貢献を使命としております。そのために、研究開発部門はＦＰＤ、光学機器用部品関連を中心に、車載、エネルギーや薄膜デバイス関連の幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、要素技術開発並びに新製品の提供等を継続し続けることを基本方針としております。(3）研究開発活動における当連結会計年度の主要課題 当社グループは、真空成膜関連製品等の製造、販売を行う単一セグメントであるため、品目別に記載しております。（ＦＰＤ用基板）①静電容量タッチパネル（インセル方式）向け電極膜の量産化技術確立②金属材料を用いた低抵抗透明導電膜（メッシュ）の開発と量産化技術確立③パターニング・リフトオフ加工技術の開発④高抵抗導電膜の量産化技術確立⑤静電容量タッチパネル低反射電極膜の量産化技術確立（その他）①車載向け反射防止膜の量産化技術確立②円筒内部を含めた異形品への成膜加工技術の開発③極薄フイルムへの成膜加工技術の開発④異形材料のパターニング加工技術の開発⑤赤外用光学薄膜の開発⑥硬質反射防止膜の開発とその応用製品の開発⑦超撥水膜・親水膜の開発とその応用製品の開発⑧高品位加飾膜の開発とその応用製品の開発⑨各種センサーデバイスの開発⑩バイオ・メディカル機器向け製品開発⑪ＢＬＥ静電容量式センサＩoＴ開発キットの開発及び販売⑫透明ヒーターへの成膜加工技術の開発とその応用製品の開発⑬フィルムへのインサート成型・ＴＯＭ成型対応膜の開発 なお、当連結会計年度の研究開発費の総額は４億１百万円であります。

６【研究開発活動】(1) 研究開発活動の体制 当社の研究開発活動は、新製品及び要素技術の開発を行う第二技術部と既存製品の改良・改善、製造設備の開発を行う第一技術部、施設部の３部門が密接に連携を取りながら担当しております。開発テーマの重要性に応じて上記３部門の他、営業部を含めプロジェクトチームを編成し、効率的に新たな技術や製品開発に取り組んでおります。 また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクト、共同研究も第二技術部を中心に推進しております。(2) 研究開発活動の方針 当社は、「真空成膜技術」をコア技術とした事業による、企業価値の追求、社会への貢献を使命としております。そのために、研究開発部門はＦＰＤ、光学機器用部品関連を中心に、エネルギーや薄膜デバイス関連の幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、要素技術開発並びに新製品の提供等を継続し続けることを基本方針としております。(3）研究開発活動における当連結会計年度の主要課題 当社グループは、真空成膜関連製品等の製造、販売を行う単一セグメントであるため、品目別に記載しております。（ＦＰＤ用基板）①静電容量タッチパネル（インセル方式）向け電極膜の量産化技術確立②金属材料を用いた低抵抗透明導電膜（メッシュ）の開発と量産化技術確立③パターニング・リフトオフ加工技術の開発④高抵抗導電膜の開発（その他）①車載向け反射防止膜の量産化技術確立②円筒内部を含めた異形品への成膜加工技術の開発③極薄フイルムへの成膜加工技術の開発④バリアフイルムへの成膜加工技術の開発⑤異形材料のパターニング加工技術の開発⑥赤外用光学薄膜の開発⑦赤外反射膜の開発⑧硬質反射防止膜の開発⑨超撥水膜・親水膜の開発とその応用製品の開発⑩高品位加飾膜の開発とその応用製品の開発⑪各種センサーデバイスの開発⑫バイオ・メディカル機器向け製品開発 なお、当連結会計年度の研究開発費の総額は４億29百万円であります。