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ジェイ・イー・ティ

機械 機械

研究開発費(時系列)

年度R&D費用(億円)設備投資(億円)
2024-12 - 2
2023-12 - 0

研究開発活動(本文)

FY2025|465 文字
6 【研究開発活動】当社グループでは、薬液による洗浄をコア技術として、様々な薬液の濃度、温度、流量、沸騰、乾燥など、多様な技術を融合・展開させるなどの基礎研究から、バッチ式及び枚葉式洗浄装置の製品開発に至るまで積極的な研究開発活動に取り組んでおります。 当連結会計年度は、半導体洗浄装置を中心とした既存事業の拡大・強化に向けた開発投資を行うとともに、新たな乾燥技術の開発を行うべくデモ装置の検討、加えてバッチ式洗浄装置BW3500及び新型枚葉式洗浄装置の開発を進め、総額で554百万円の研究開発費を投入しました。 なお、当社グループの主な研究開発成果は次のとおりであります。半導体製造技術における基礎研究においては、新たな乾燥技術の開発を行う為のデモ装置の検討、半導体洗浄装置においては、バッチ式洗浄装置であるBW3500を開発・製造し、上市し、継続して改善に取り組んでおります。また、枚葉式洗浄装置では、HTS-300において新たな薬液に対応したプロセス評価を実施し、新型枚葉式洗浄装置の開発・製造に取り組み、継続しております。

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